現(xiàn)在的平面研磨機都是采用游離磨料,合適的研磨加工機器和研磨工藝的平面研磨，作為一種設(shè)備相對簡單，又仍然可以得到很高的形體精度和表面質(zhì)量的方法，依舊是超精密加工最有效的手段之一了。

那么超精密的平面研磨加工技術(shù)是研磨技術(shù)中的一種，可以獲得極高的零件表面質(zhì)量，主要是可以獲得極高的面部精度 （平面度 平行度等）和無加工變質(zhì)層的表面?，F(xiàn)代高科技產(chǎn)品的制造，如單晶硅片 硬磁盤基片 壓電陶瓷換能器等均需要采用超精密平面研磨加工技術(shù)。

超精密平面研磨可以分為四個基礎(chǔ)組成成分----研磨盤研磨液磨粒和工件。研磨盤是精密研磨加工中的磨具，其面型精度對被加工件的面型精度影響非常大，模具表面形貌能在一定程度上復(fù)制到工件面上。

拋光是利用柔性拋光工具和磨料顆粒或其他拋光介質(zhì)對工件表面進行的修飾加工。拋光不能提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度，而是以得到光滑表面或者鏡面光澤為目的，所以通常是作為精密加工最后的一道工序。因為研磨和拋光的原理來說基本是一致，所以通常所有的加工設(shè)備也可以通用，故經(jīng)常將研磨和拋光并提，稱之為研磨拋光技術(shù)。研磨拋光可以通過單盤單面研磨拋光或者雙面研磨拋光實現(xiàn)。雙面流離磨料研磨中工件在上下盤之間，研磨時上下表面被同時加工。單面拋光在對單面有平坦度的要求，背面形狀復(fù)雜不易夾持或單平面基準(zhǔn)面及高平坦之鏡面加工要求時，或薄易碎而沒有變形的情形下特別適用。單面游離磨料研磨拋光加工因其適應(yīng)面廣，仍然是應(yīng)用最廣泛的加工形式之一。

超精度拋光最大的特點是它不改變工件的面部精度，只是改善了其表面粗糙度，超精密拋光可使工件的表面粗糙度達到納米級甚至次納米級，超精密研磨最大的特點就是獲得極高的面部精度，打一個比方，將精密平面研磨可以使工件的平面度達到十分之一甚至百分之一微米的水平。因此為使工件獲得高的面型精度，低的表面粗糙度。我們會將精密研磨技術(shù)和超精密拋光技術(shù)并提，于是稱之為超精密平面研磨拋光技術(shù)。取超精密研磨的高精度及超精密拋光的低表面粗糙度，從而加工出非常精密的零件。